一、行業簡介
        半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度（dù）線路板、光電（diàn）器件、各種電子器（qì）件、微電子（zǐ）工業、大規模、超大規模（mó）集成電路需用大量的純（chún）水（shuǐ）、高純水、超純水清洗半（bàn）成品、成品。集成電路的集（jí）成度（dù）越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電（diàn）子工業部把電（diàn）子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質（zhì）。
二、應用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗（yàn）室、食品（pǐn）、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥（yào）、石油、化工、鋼鐵、玻璃等（děng）領域。
2、化工工藝用水、化學藥（yào）劑、化妝（zhuāng）品等用純水。
3、單晶矽、半導體晶片切（qiē）割製造、半導體芯片、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器（qì）、導電（diàn）玻璃、顯像管、線路板（bǎn）、光通信、電腦元件、電容器潔淨產品及各種元器件等生產工藝用純水。
三、工藝（yì）簡介
1、係統模塊化（huà）設計，共分四部分：預處理係統、反滲透係統、EDI係統、終端供水係統。
2、預處理係統主要用（yòng）來去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分有機物，保證產水符合（hé）反滲透係統的進水水質要求。
3、反（fǎn）滲透係統主要用（yòng）來（lái）去除原水中溶解性鹽類物質、細（xì）菌、熱（rè）源（yuán）等，保證產水符合EDI係統進水水質（zhì）要求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進（jìn）行（háng）進一步脫除溶解性的小分（fèn）子鹽類物質，產水達到電阻率達到15MΩ.cm以上。
5、終端（duān）供水（shuǐ）係（xì）統主要是用來將合格水輸送至用水點，輸送過程中對（duì）EDI產生進行最後的離子交換脫鹽，使得產水達到電阻率達（dá）到（dào）18MΩ.cm以（yǐ）上。
6、整個係統進行集中控製（zhì）。

四、技術特色
1、係統模塊化設計，占地麵積小，操作維（wéi）護方便，安裝方便快捷，整（zhěng）體（tǐ）美觀。
2、整套係（xì）統（tǒng）實現全自動化運行，並且手動與自動自由切換。
3、設備產水水質穩定，運行連續穩定。
4、係統工藝（yì）先進，無需化學藥品再（zài）生，無危害性廢液排（pái）放。
5、係統節水率高，係統（tǒng）回收（shōu）率在75%以上（shàng）。
6、關鍵部（bù）位采用在線儀表監測，適時數據上傳。
五、設備參數
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統（tǒng）≥90%
2、設備產水符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工（gōng）業純水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。